HoleSnap Pattern: zamieniaj obrazy w edytowalne wzory wektorowe
Przekształć zdjęcie, logo lub SVG w regulowany wzór HoleSnap Pattern. Ustaw układ, kształt, rozstaw i ton oraz eksportuj PNG, SVG lub DXF.

Obraz może stać się wzorem, a nie tylko referencją. Logo może przekształcić się w perforowany szyld, zdjęcie w powierzchnię półtonową, a ilustracja w powtarzalne pole graficzne. HoleSnap Pattern to samodzielny generator wzorów z obrazu działający w przeglądarce.

Wczytaj obraz i wybierz układ
Wczytaj PNG, JPEG, WebP lub SVG albo wybierz obraz startowy. Pattern analizuje jasność, kontrast, krawędzie i lokalne szczegóły, po czym generuje nową geometrię. SVG jest próbkowany — oryginalne ścieżki nie są zachowywane, więc nie jest to bezstratne trasowanie SVG.
Układy to Grid, Hex, Stagger i Tri; kształty otworów: Circle, Square, Diamond i Triangle. Ten sam obraz może wyglądać zupełnie inaczej przy innej kombinacji.

Dopasuj ton, gęstość i wariant
Ustaw Pitch, Density, obrót, przesunięcie, jitter i seed. Mapowanie rozmiaru może być obrazowe, odwrócone, stałe lub lekko losowe. Korekty Contrast, Gamma, Threshold, Background Ignore, krawędzi i detali regulują czytelność. Segmentacja może pomóc odseparować obiekt, ale nie gwarantuje automatycznego wycięcia tła.
Podgląd pokazuje liczbę otworów, Open Rate i rozstaw. Traktuj te dane jako porównanie wariantów, a nie analizę materiałową.

Trzy punkty wyjścia
- Logo i oznakowanie: kontrastowy znak, regularna siatka, proste koła; dopracuj krawędzie i tło.
- Zdjęcia i półtony: reguluj kontrast, gammę i próg, by zachować właściwy poziom szczegółów.
- Panele dekoracyjne lub funkcjonalne: dopasuj gęstość do koncepcji, a mostki i granice zweryfikuj w CAD/CAM.
PNG służy do szybkiego podglądu, SVG do edycji wektorowej, a DXF do CAD/CAM (wymaga Plus). Eksport wymaga zalogowania i korzysta z dziennego limitu. Przed produkcją sprawdź wymiary, jednostki, geometrię, zamknięte kontury, mostki, granice i ograniczenia maszyny.
Pattern jest oddzielny od HoleSnap Mesh i Flow Scene: Mesh służy do regularnych układów i ścieżek, Flow Scene do komórek oraz linii organicznych, a Pattern do wzorów sterowanych obrazem.