HoleSnap Pattern: proměňte obrázky v upravitelné vektorové vzory
Převeďte fotografii, logo nebo SVG na upravitelný vzor HoleSnap Pattern. Nastavte rozvržení, tvar, rozteč a tón a exportujte PNG, SVG či DXF.

Obrázek se může stát samotným vzorem, nejen referencí. Logo lze změnit na perforovaný štítek, fotografii na polotónový povrch a ilustraci na opakovatelné grafické pole. HoleSnap Pattern je samostatný generátor vzorů z obrázků v prohlížeči.

Nahrajte obrázek a vyberte rozvržení
Nahrajte PNG, JPEG, WebP nebo SVG, případně zvolte ukázkový obrázek. Pattern analyzuje jas, kontrast, hrany a místní detaily a vytvoří novou geometrii. SVG se vzorkuje — původní cesty se nezachovávají, nejde tedy o bezeztrátové trasování SVG.
Rozvržení zahrnují Grid, Hex, Stagger a Tri; tvary otvorů jsou Circle, Square, Diamond a Triangle. Stejný obrázek může vypadat zcela odlišně podle jejich kombinace.

Upravte tón, hustotu a variace
Nastavte Pitch, Density, otočení, posun, jitter a seed. Mapování velikosti může vycházet z obrázku, být obrácené, pevné nebo mírně náhodné. Úpravy Contrast, Gamma, Threshold, Background Ignore, hran a detailů řídí čitelnost. Segmentace může pomoci oddělit objekt od pozadí, nezaručuje však automatické vyříznutí.
Náhled zobrazuje počet otvorů, Open Rate a rozteč. Používejte je k porovnání variant, nikoli jako materiálovou analýzu.

Tři praktické začátky
- Loga a značení: kontrastní značka, pravidelná mřížka, jednoduché kruhy; dolaďte hrany a pozadí.
- Fotografie a polotóny: nastavte kontrast, gammu a práh podle množství detailů, které chcete zachovat.
- Dekorativní a funkční panely: přizpůsobte hustotu návrhu a můstky i hranice ověřte v CAD/CAM.
PNG slouží k rychlému náhledu, SVG k vektorovým úpravám a DXF pro CAD/CAM (vyžaduje Plus). Export vyžaduje přihlášení a využívá denní limit. Před výrobou zkontrolujte rozměry, jednotky, geometrii, uzavřené kontury, můstky, hranice a limity stroje.
Pattern je samostatný od HoleSnap Mesh a Flow Scene: Mesh slouží pro pravidelná rozvržení a vlastní cesty, Flow Scene pro organické buňky a linie a Pattern pro vzory řízené obrázkem.